新しい光源による応力評価　　２．シンクロトロン放射光による薄膜および微小部の応力測定

• 英 崇夫

  徳島大学工学部機械工学科

• 秋田 貢一

  武蔵工業大学工学部機械システム工学科

書誌事項

タイトル別名

• II : Residual Stress Measurements on Thin Films and Microscopic Area using Synchrotron Radiation
• 講座 新しい光源による応力評価(2)シンクロトロン放射光による薄膜および微小部の応力測定
• コウザ アタラシイ コウゲン ニ ヨル オウリョク ヒョウカ 2 シンクロトロン ホウシャコウ ニ ヨル ハクマク オヨビ ビショウブ ノ オウリョク ソクテイ

収録刊行物

• 材料

  材料 54 (6), 642-647, 2005

  公益社団法人 日本材料学会

キーワード

• X-ray stress measurement
• Synchrotron
• X-ray diffraction
• Residual stress
• Thin film
• Fiber texture
• Microscopic area
• Crack tip
• Single crystal

詳細情報

• CRID: 1390282680396304384
• NII論文ID: 110006266554
• NII書誌ID: AN00096175
• DOI: 10.2472/jsms.54.642
• ISSN: 18807488
• ISSN: 05145163
• NDL書誌ID: 7397212
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7397212
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles