MIM(Metal-Insulator-Metal)キャパシタを用いた混載DRAMデバイステクノロジー

• 谷川 高穂

• 山縣 保司

• 白井 浩樹

書誌事項

タイトル別名

• MIM Metal Insulator Metal キャパシタ オ モチイタ コンサイ DRAM デバイス テクノロジー
• Device technology for embedded DRAM utilizing stacked MIM (Metal-Insulator-Metal) capacitor
• 集積回路
• シュウセキ カイロ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107 (1), 17-22, 2007-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 混載DRAM
• MIM容量
• High-k
• ZrO2
• HfSiON
• embedded DRAM
• MIM Capacitor

詳細情報

• CRID: 1520009409422674688
• NII論文ID: 110006272858
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 8723339
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8723339
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles