スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成

• 以西 雅章

• 中村 功一

• 長南 祐史

Bibliographic Information

Other Title

• スパッタリングホウ ニ ヨル LiMn2O4 ハクマク ノ セイセイ
• Preparation of LiMn2O4 films by sputtering method
• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ デバイス

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107 (56), 93-96, 2007-05

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• Li二次電池
• マンガン酸化物薄膜
• Li-Mn欠陥スピネル構造
• スパッタリング法
• アニール
• Li secondary batteries
• Manganese oxide films
• Li-Mn defect spinel structure
• sputtering method
• rapid thermal annealing

Details

• CRID: 1520009408452688128
• NII Article ID: 110006292230
• NII Article ID: 110006291104
• NII Article ID: 110006292294
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 8763265
• NDL BIB ID: 8762587
• NDL BIB ID: 8762776
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8763265
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8762587
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8762776
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN