21aWH-11 TiO_2(001)基板上に作製したVO_2薄膜における金属-絶縁体転移の膜厚依存性(V酸化物,高圧,領域8,強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など)

• 佐伯 邦成

  岡山大院自然科学

• 村岡 祐治

  岡山大院自然科学

• 脇田 高徳

  岡山大院自然科学

• 平井 正明

  岡山大院自然科学

• 横谷 尚睦

  岡山大院自然科学

• 江口 律子

  理研 SPring-8

• 辛 埴

  理研 SPring-8

• 仙波 泰徳

  JASRI SPring-8

• 大橋 治彦

  JASRI SPring-8

書誌事項

タイトル別名

• 21aWH-11 Thickness dependence of the metal-to-insulator transition for VO_2 thin films on TiO_2(001) substrates

収録刊行物

• 日本物理学会講演概要集

  日本物理学会講演概要集 62.2.3 (0), 513-, 2007

  一般社団法人 日本物理学会

詳細情報

• CRID: 1390001206012381568
• NII論文ID: 110007141164
• DOI: 10.11316/jpsgaiyo.62.2.3.0_513_2
• ISSN: 21890803
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles