高導電性透明酸化物薄膜の作製に関する研究

• 河野 昭彦

• 能智 紀台

• 生地 文也

書誌事項

タイトル別名

• コウドウデンセイ トウメイ サンカブツ ハクマク ノ サクセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Fabrication of the highly electro-conductive transparent oxide thin films

収録刊行物

• 九州共立大学総合研究所紀要 = Journal of Kyushu Kyoritsu University Research Center

  九州共立大学総合研究所紀要 = Journal of Kyushu Kyoritsu University Research Center (1), 49-54, 2008-02

  北九州 : 九州共立大学総合研究所

キーワード

• transparent conductive oxide
• tin-doped indium oxide (ITO) thin film
• plasma sputtering method
• Oxygen vacancy
• 透明導電性酸化物
• SnドープIn2O3(ITO)薄膜
• プラズマスパッタ法
• 酸素空孔

詳細情報

• CRID: 1520572359828007936
• NII論文ID: 110007144900
• NII書誌ID: AA12335420
• ISSN: 18827144
• NDL書誌ID: 10623396
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10623396
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM2(科学技術--科学技術一般--大学・研究所・学会紀要)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles