MOSトランジスタのスケーリングに伴う特性ばらつき

• 平本 俊郎

• 竹内 潔

• 西田 彰男

Bibliographic Information

Other Title

• MOS トランジスタ ノ スケーリング ニ トモナウ トクセイバラツキ
• Variability of characteristics in scaled MOSFETs
• 小特集 CMOSデバイスの微細化に伴う特性ばらつきの増大とその対策
• ショウトクシュウ CMOS デバイス ノ ビサイカ ニ トモナウ トクセイバラツキ ノ ゾウダイ ト ソノ タイサク

Abstract

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌

Journal

• 電子情報通信学会誌 = The journal of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers

  電子情報通信学会誌 = The journal of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers 92 (6), 416-426, 2009-06

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• 特性ばらつき
• 不純物揺らぎ
• 微細化

Details

• CRID: 1520853833112478592
• NII Article ID: 110007227367
• NII Book ID: AN1001339X
• ISSN: 09135693
• NDL BIB ID: 10328308
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10328308
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles