光触媒およびＵＶを前処理に用いた導電微粒子の作製

• 井上 浩徳

  関東学院大学大学院工学研究科

• 馬場 邦人

  関東学院大学大学院工学研究科

• 渡辺 充広

  株式会社関東学院大学表面工学研究所

• 本間 英夫

  関東学院大学工学部

書誌事項

タイトル別名

• Pretreatment of Nickel Plating for Conductive Particles Using Photocatalyst and Ultraviolet Light
• ヒカリ ショクバイ オヨビ UV オ ゼン ショリ ニ モチイタ ドウデン ビリュウシ ノ サクセイ

抄録

As electronic devices are miniaturized, connection reliability between the Liquid Crystal Display (LCP) and the device becomes increasingly important. Anisotropic conductive film has been widely used to form the connection between the chip and the glass substrate. In this paper, we report the applicability of ultraviolet light irradiation, using a photocatalysis process to modify the surface of the non-conductive resin particles. A uniform and adhered nickel deposition can be achieved with TiO₂ as the photocatalyst. However, separating the TiO₂ from the treated resin particles can be difficult. We were able to solve this problem by introducing ZnO as a photocatalyst, since the ZnO particles are easily dissolved by an acid and alkaline solution.

収録刊行物

• エレクトロニクス実装学会誌

  エレクトロニクス実装学会誌 12 (3), 233-237, 2009

  一般社団法人エレクトロニクス実装学会

キーワード

• Electroless Ni Plating
• Conductive Particles
• Photocatalyst
• Ultraviolet Light

詳細情報

• CRID: 1390282679536931072
• NII論文ID: 110007326924
• NII書誌ID: AA11231565
• DOI: 10.5104/jiep.12.233
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD1MXpt1Oks7c%3D
• ISSN: 1884121X
• ISSN: 13439677
• NDL書誌ID: 10303421
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10303421
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jiep/12/3/12_3_233/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可