光透かしにおける透かしパターンの投影条件の検討(視知覚とその応用,一般)

• 小森 瑞穂

  神奈川工科大学情報学部

• 上平 員丈

  神奈川工科大学情報学部

• 鈴木 雅洋

  神奈川工科大学ヒューマンメディア研究センター

書誌事項

タイトル別名

• A Study on Illumination Condition for Optical-digital Water Marking
• 光透かしにおける透かしパターンの投影条件の検討
• ヒカリ スカシ ニ オケル スカシ パターン ノ トウエイ ジョウケン ノ ケントウ

抄録

筆者らは,美術館の絵画など非電子画像の著作権・肖像権を無断撮影からの保護を目的に透かし情報を光を用いて埋め込む電子透かし技術の研究を行っている.この技術では,観察者に気付かれないように光に透かし情報を含ませることがポイントになる.今回,被写体上に照射された透かし情報を含む光について透かしパターンが知覚されない条件を検証した.実験結果から,不可視性はパターンのコントラストに依存するが,本技術を応用する上での実用的な状況において不可視性の可能性を示し,本技術の実現性を示すことができた.

収録刊行物

• 映像情報メディア学会技術報告

  映像情報メディア学会技術報告 33.45 (0), 11-14, 2009

  一般社団法人 映像情報メディア学会

キーワード

• 電子透かし
• 著作権
• 離散コサイン変換
• アダマール変換

詳細情報

• CRID: 1390282679503549824
• NII論文ID: 110007484249
• NII書誌ID: AN1059086X
• DOI: 10.11485/itetr.33.45.0_11
• ISSN: 24241970
• ISSN: 13426893
• NDL書誌ID: 10443158
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10443158
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可