1J2-5 共振ヤング率顕微鏡を用いたSiウェハー内の酸素析出物の評価(測定技術,映像法,非破壊評価II)

• 吉田 裕希

  大阪大基礎工

• 荻 博次

  大阪大基礎工

• 平尾 雅彦

  大阪大基礎工

• 松川 和人

  (株)ルネサステクノロジ

• 原田 博文

  シルトロニック・ジャパン(株)

書誌事項

タイトル別名

• 1J2-5 Evaluation of Oxygen Precipitates in Si Wafer by Resonance Ultrasound Microscopy(Measurement techniques, Imaging, Nondestructive evaluation II)

収録刊行物

• 超音波エレクトロニクスの基礎と応用に関するシンポジウム講演論文集

  超音波エレクトロニクスの基礎と応用に関するシンポジウム講演論文集 30 (0), 193-194, 2009-11-18

  特定非営利活動法人 超音波エレクトロニクス協会

詳細情報

• CRID: 1390001288092042240
• NII論文ID: 110007721657
• DOI: 10.24492/use.30.0_193
• ISSN: 24331910
• ISSN: 13488236
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles