三次元基板のグリーンレーザー結晶化によるLTPS TFTフラッシュメモリの特性評価

• 市川 和典

• 松江 将博

• 赤松 浩

Bibliographic Information

Other Title

• 3ジゲン キバン ノ グリーンレーザー ケッショウカ ニ ヨル LTPS TFT フラッシュメモリ ノ トクセイ ヒョウカ
• Investigation of LTPS TFT flash memory using crystallized 3-dimensional substrate by green laser irradiation
• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ デバイス

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 109 (321), 55-58, 2009-12-04

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• 低温poly-SiTFT
• フラッシュメモリ
• システムオンパネル
• レーザー結晶化
• Low temperature poly-Si TFT
• Flash memory
• System on panel
• Laser crystallization

Details

• CRID: 1520290883211900928
• NII Article ID: 110008001098
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 10511916
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10511916
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10511916
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN