10aAS-1 SiC-MOSデバイスにおけるプロトン拡散の理論的検討(10aAS 表面界面ダイナミクス/水素ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • 10aAS-1 Theoretical Study of Proton diffusion in SiC-MOS device

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680941733632
  • NII論文ID
    110009874291
  • DOI
    10.11316/jpsgaiyo.69.2.4.0_674_1
  • ISSN
    21890803
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ