A Process Variability Band Area Reduction Algorithm For Optical Lithography

• AWAD, Ahmed

• Awad, Ahmed

• 高橋, 篤司

• TAKAHASHI, Atsushi

抄録

identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50248618

収録刊行物

• 電子情報通信学会 2014年ソサイエティ大会 講演論文集 (A-3-6)

  電子情報通信学会 2014年ソサイエティ大会 講演論文集 (A-3-6) A 50-, 2014-09

  一般社団法人電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1050292572161057152
• NII論文ID: 110009881485
• NII書誌ID: AN10489017
• Web Site: http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100676102
• 本文言語コード: en
• 資料種別: conference paper
• データソース種別:
  • IRDB
  • CiNii Articles