C-10-1 低真空熱窒化処理によるNi窒化物トランジスタの作製と評価(C-10,電子デバイス,一般セッション)

• 佐々木 凱生

  神戸市立工業高等専門学校

• 松原 暉

  神戸市立工業高等専門学校

• 市川 和典

  神戸市立工業高等専門学校

• 赤松 浩

  神戸市立工業高等専門学校

書誌事項

タイトル別名

• C-10-1 Evaluation of Ni nitride transistor was fablicated by low vaccum heat nitrided process

収録刊行物

• 電子情報通信学会総合大会講演論文集

  電子情報通信学会総合大会講演論文集 2015 (2), 48-, 2015-02-24

  一般社団法人電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1570854177882981120
• NII論文ID: 110009926942
• NII書誌ID: AN10471452
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles