その場ウェハ曲率測定による格子緩和率制御手法を用いて作製したGaAs/InGaAs系1.3μm帯メタモルフィックレーザの高速変調動作

• 中尾 亮

• 荒井 昌和

• 小林 亘

書誌事項

タイトル別名

• ソノ バ ウェハキョクリツ ソクテイ ニ ヨル コウシ カンワリツ セイギョ シュホウ オ モチイテ サクセイ シタ GaAs/InGaAsケイ 1.3mmタイ メタモルフィックレーザ ノ コウソク ヘンチョウ ドウサ
• High-speed operation of 1.3 μm GaAs/InGaAs metamorphic lasers fabricated by using highly-accurate control of crystal lattice relaxation based on in-situ wafer curvature measurement
• 光エレクトロニクス
• ヒカリ エレクトロニクス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (377), 59-64, 2014-12

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• メタモルフィック結晶成長
• その場測定
• 直接変調
• 高温度特性
• Metamorphic Growth
• In-situ Measurement
• Direct Modulation
• High Temperature Characteristics

詳細情報

• CRID: 1520009408299371392
• NII論文ID: 110009977810
• NII論文ID: 110009977823
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 026034500
• NDL書誌ID: 026034878
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I026034500
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I026034878
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles