Functional gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistors using tunnel injection/ejection of trap charges enabling self-adjustable threshold voltage for ultralow power operation
収録刊行物
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- Appl. Phys. Lett.
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Appl. Phys. Lett. 98 (5), 2011-01
American Institute of Physics
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570572702841869440
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- NII論文ID
- 120006582092
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- CiNii Articles