小特集／無電解めっきの現状と将来　無電解めっきの原理　析出機構を中心として

• 松岡 政夫

  大阪府立大学工学部

書誌事項

タイトル別名

• Special Issue/The Present and Future Trends in the Electroless Plating. The Principle of Electroless Plating. Mainly on Reaction Mechanism.
• ムデンカイ メッキ ノ ゲンリ セキシュツ キコウ オ チュウシン ト シテ
• Mainly on Reaction Mechanism
• 析出機構を中心として

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 42 (11), 1058-1067, 1991

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Electroless Deposition
• Mixed Potential Theory
• Partial Reaction
• Side Reaction
• Bath Stability

詳細情報

• CRID: 1390001204113834624
• NII論文ID: 130001073489
• NII論文ID: 10008848877
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.42.1058
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 3746800
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3746800
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles