干渉計を用いた楕円体ミラーの形状計測

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タイトル別名
  • Measurement of surface profiles of elliptical mirrors by using interferometer -Development of highly accurate stitching method-
  • 高精度スティッチング法の開発

抄録

曲率が大きなX線集光ミラーに対して干渉計を用いて測定すると,干渉縞が密になりすぎて計測できる範囲が非常に狭いものとなり,計測データをスティッチする必要がある.そこで,スティッチする際の精度を高めるために,平面ミラーにより計測するミラーの傾きをモニターする計測システムを開発した.結果,80mmに対して10μm以上の深さを持った非常に大きな曲率を持つミラーをpv2nmの測定再現性で測定可能となった。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205650069760
  • NII論文ID
    130004655420
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2004a.0.116.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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