暗視野エバネッセント照明による回路パターン付きSiウエハ表面異物欠陥検出法に関する研究(第二報)

• 吉岡 淑江

  大阪大学　大学院工学研究科

• 三好 隆志

  大阪大学　大学院工学研究科

• 高谷 裕浩

  大阪大学　大学院工学研究科

• 高橋 哲

  東京大学　精密工学科

書誌事項

タイトル別名

• Study on Particle Detection for Patterned Wafers by Evanescent Light Illumination (2nd Report) -Experimental Investigation on Characteristics of Evanescent Light Illumination
• エバネッセント照明特性の実験的検討

抄録

近年半導体デバイスの高集積化と微細化は年々加速しており、配線パターン上のナノオーダーの微小付着異物を高信頼度で検出できる手法が強く求められている。しかし従来の遠隔場光波情報に基づく光散乱検出法では次世代デバイスへの適用は困難である。そこで新たに、伝搬光とは異なった特性を有するエバネッセント光を利用した欠陥検出法を提案する。本報では、試作した欠陥検出光学系の基本特性を基礎実験により調べ、提案手法の有効性を示す。

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2004S (0), 409-409, 2004

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• 配線パターン付きウエハ
• 表面欠陥検出
• エバネッセント光

詳細情報

• CRID: 1390001205647941120
• NII論文ID: 130004656248
• DOI: 10.11522/pscjspe.2004s.0.409.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可