EEMによるSiC表面の平坦化

• 久保田 章亀

  大阪大学　大学院工学研究科　精密科学専攻

• 三村 秀和

  大阪大学　大学院工学研究科　精密科学専攻

• 稲垣 耕司

  大阪大学　大学院工学研究科　精密科学専攻

• 佐野 泰久

  大阪大学　大学院工学研究科　精密科学専攻

• 山村 和也

  大阪大学　大学院工学研究科　附属超精密科学研究センター

• 山内 和人

  大阪大学　大学院工学研究科　精密科学専攻

• 森 勇藏

  大阪大学　大学院工学研究科　附属超精密科学研究センター

書誌事項

タイトル別名

• Flattening SiC surface by elastic emission machining (EEM)

抄録

高硬度かつ化学的に安定である4H-SiC(0001)表面に対して,EEMによる平坦化加工を試みた.その結果,前加工表面に存在する無数の研磨痕が完全に除去され,表面粗さが0.1nm(RMS) 以下(測定領域2μm×2μm)で,結晶学的な原子配列に乱れのない超平滑表面が得られることを示した.

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2005S (0), 785-785, 2005

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• EEM

詳細情報

• CRID: 1390282680630195840
• NII論文ID: 130004657897
• DOI: 10.11522/pscjspe.2005s.0.785.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可