結晶シリコン太陽電池用エミッタ層への応用を目指した高圧プラズマ化学輸送法による微結晶SiC薄膜の形成

DOI
  • 堀 貴博
    大阪大 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
  • 垣内 弘章
    大阪大 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
  • 安武 潔
    大阪大 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻
  • 大参 宏昌
    大阪大 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Formation of μc-SiC film by high-pressure plasma enhanced chemical transport toward its application to emitter layer of bulk silicon solar cell

抄録

現在、太陽電池のさらなる高効率化・低コスト化に向けた取り組みが盛んに行われている．この様な背景から，我々は高圧力の水素プラズマを用いた大気圧プラズマ化学輸送法 (APECT法)によりn型SiC薄膜をp型Si基板上へ形成する手法の開発に取り組んでいる．本講演では，Si基板上のエミッタ層として利用するためAPECT法により形成した微結晶SiC薄膜に対し，その電気／光学特性を評価した．その結果を報告する．

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205654729600
  • NII論文ID
    130004660280
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2011a.0.521.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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