Siのマイクロ波水素プラズマエッチングにおける水素ガス流れと熱伝導のシミュレーション

• 岡本 康平

  大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻

• 山田 高寛

  大阪大，JST CREST

• 大参 宏昌

  大阪大，JST CREST

• 垣内 弘章

  大阪大，JST CREST

• 安武 潔

  大阪大，JST CREST

抄録

SiH₄ガスの新規製造プロセスとしてSiのマイクロ波水素プラズマエッチングを提案している。本研究では、熱流体解析ソフト PHOENICS によりこの手法における水素ガス流れと熱伝導のシミュレーションを行った。エッチング領域でのガス速度、エッチング表面温度の見積もりが可能であることがわかり、実験結果との比較から条件最適化を行うことでSiH₄ガス生成のさらなる高速・高効率化が期待できる。

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2012A (0), 333-334, 2012

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• マイクロ波
• 水素プラズマ
• エッチング
• 熱流体解析

詳細情報

• CRID: 1390001205656430720
• NII論文ID: 130004660676
• DOI: 10.11522/pscjspe.2012a.0.333.0
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可