セリア砥粒の分散・凝集状態制御による研磨能率向上効果の影響要因について

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Study on Some Factors that Affect the Improvement in Removal Rates by means of Ceria Dispersibility Control in Polishing Slurry for Glass Based Materials

抄録

ガラス系材料の研磨において,セリア砥粒研磨スラリーの分散・凝集状態と研磨パッド表面状態の制御による研磨能率の向上と砥粒使用量削減の可能性が確認されている。本報はその効果に影響を及ぼす要因として砥粒の粒径や添加率,研磨パッドの種類,工作物の前加工面状態などの影響を検証したので,報告する。

収録刊行物

関連プロジェクト

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205654965760
  • NII論文ID
    130004661127
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2013a.0.251.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
    • KAKEN
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ