ナノビームSIMSを用いたshave-off深さ方向分析

• 野島 雅

  東理大理工 東大生研

• 戸井 雅之

  東理大理工 東大生研

• 前川 綾香

  東理大理工 東大生研

• 山本 剛史

  東理大理工 東大生研

• 冨安 文武乃進

  東大生研 東大環セ

• 坂本 哲夫

  東大生研 東大環セ

• 尾張 真則

  東大生研 東大環セ

• 二瓶 好正

  東理大理工

書誌事項

タイトル別名

• The shave-off depth profiling by the nano-beam SIMS

抄録

我々が開発したshave-off深さ方向分析法は、ダイナミック条件の一次イオンビームをビームの側面で試料の端面から削りながらデプスプロファイルを取得するという大変ユニークな深さ方向分析法である。本手法に、TEMの薄膜試料作製に用いられているFIBを用いたlift-out技術を応用することで、さらにその適用範囲を広げ汎用性を高めることが可能となったので報告する。

収録刊行物

• 表面科学講演大会講演要旨集

  表面科学講演大会講演要旨集 24 (0), 116-116, 2004

  公益社団法人 日本表面科学会

詳細情報

• CRID: 1390001205646977920
• NII論文ID: 130004673141
• DOI: 10.14886/sssj.24.0.116.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可