Resist-Pattern Guided Self-assembly of Symmetric Diblock Copolymer
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- Yamaguchi Toru
- NTT Basic Research Laboratories, NTT Corporation
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- Yamaguchi Hiroshi
- NTT Basic Research Laboratories, NTT Corporation
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収録刊行物
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- Journal of Photopolymer Science and Technology
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Journal of Photopolymer Science and Technology 19 (3), 385-388, 2006
フォトポリマー学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204326368512
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- NII論文ID
- 130004833107
- 40007307358
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- NII書誌ID
- AA11576862
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD28XotVCgsrw%3D
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- ISSN
- 13496336
- 09149244
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- NDL書誌ID
- 7955088
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles