スルーホールフィリング硫酸銅めっき技術
書誌事項
- タイトル別名
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- Technology of acid copper plating for through hole filling.
抄録
従来の多層板製造工程ではスルーホールを有するコア材に対してコンフォーマルめっきを行い、インク材などを充填した後に研磨、フタめっきを経てコア材のスルーホールにスタックビアを形成する方法が採用されてきた。しかし、コア層スルーホールを銅めっき充填できれば、インク材充填~フタめっきを1段階で処理することが可能であり、生産性の向上や大幅なコストダウンが期待される。このような背景のもと、我々は硫酸銅スルーホールフィリングめっきプロセス(TF2)の開発を進めてきた。本報ではスルーホールフィリングのメリットおよびTF2プロセスの性能や今後の展開について報告する。
収録刊行物
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- エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
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エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 21 (0), 9-11, 2007
一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680531076736
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- NII論文ID
- 130005010873
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可