集束プロトンビーム描画による高アスペクト比微細型加工

• 吉田 栄治

  神戸製鋼所

• 西川 宏之

  芝浦工業大学

• 打谷 直之

  芝浦工業大学

• 古田 祐介

  芝浦工業大学

• 神谷 富裕

  日本原子力機構

• 石井 保行

  日本原子力機構

• 佐藤 隆博

  日本原子力機構

• 及川 将一

  日本原子力機構

• 芳賀 潤二

  日本原子力機構

書誌事項

タイトル別名

• High aspect micro mold machining with focused proton beam writing

抄録

集束プロトンビーム描画は、MeV級プロトンの持つ低散乱性によって垂直加工性と加工深さを、集束機構と走査機構によってサブミクロンスケールのマスクレス加工を、またその結果として高アスペクト比加工を、さらにはエネルギーによって飛程を制御することで三次元加工を実現する、レジストに対するリソグラフィー技術である。本報では、集束プロトンビーム描画のこれら特徴を用いた新たな微細加工法について報告する。

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2007S (0), 253-254, 2007

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• 微細加工
• プロトンビーム
• 垂直加工
• マスクレス
• 高アスペクト比
• 三次元加工

詳細情報

• CRID: 1390001205653611008
• NII論文ID: 130005028414
• DOI: 10.11522/pscjspe.2007s.0.253.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可