研磨パッドの表面状態に着目した高能率研磨加工に関する研究

• 内藤 達也

  大阪大　工学研究科

• 佐藤 基起

  大阪大　工学研究科

• 佐竹 うらら

  大阪大　工学研究科

• 杉原 達哉

  大阪大　工学研究科

• 榎本 俊之

  大阪大　工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Improvement of Finishing Efficiency Considering Contact Behavior of Polishing Pad with Workpiece Surface

抄録

昨今のハードディスクドライブ（HDD）の市場拡大にともない，HDDに搭載される磁気ディスクの低価格化が強く望まれている．そのため，磁気ディスクガラス基板の研磨加工に対して，極めて高い加工能率が求められるようになった．そこで本研究では，スエード研磨パッドの表面状態に着目し，加工能率に影響を及ぼす要因を検討した．その結果，ガラス基板を高能率で研磨加工することができたので報告する．

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2012S (0), 311-312, 2012

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• ポリシング
• 研磨パッド
• ガラスディスク
• 加工能率

詳細情報

• CRID: 1390282680633018880
• NII論文ID: 130005031178
• DOI: 10.11522/pscjspe.2012s.0.311.0
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可