RFマグネトロンスパッタリング法によるプラスチック基板へのITOの製膜

• 鎌田 裕也

  阪市大院工

• 前田 拓也

  阪市大院工

• 福田 常男

  阪市大院工

書誌事項

タイトル別名

• ITO thin film formation on flexible plastic films by RF magnetron sputtering

抄録

フレキシブルエレクトロニクスに向けてプラスチック基板への電極材料の製膜は重要な要素技術である。本発表では、PEN（=Polyethylene naphthalate)基板上へのITO薄膜の製膜条件を最適化し、膜厚100 nmで<10^-3 Ohm cmの低抵抗ITO薄膜を形成できたので報告する。

収録刊行物

• 表面科学学術講演会要旨集

  表面科学学術講演会要旨集 36 (0), 132-, 2016

  公益社団法人 日本表面真空学会

詳細情報

• CRID: 1390001205678296576
• NII論文ID: 130005175512
• DOI: 10.14886/sssj2008.36.0_132
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可