大面積電子ビーム照射を用いたアルミナ薄膜形成における成膜メカニズムの検討

DOI

書誌事項

タイトル別名
  • Film Formation Mechanism in Alumina Coating by Large-area Electron Beam Irradiation

抄録

これまで，大面積電子ビーム照射による薄膜形成の可能性を示してきた．しかし，その成膜メカニズムについての詳細は不明な点が多い．そこで本研究では成膜メカニズムについて，ジグの磁性・導電性の有無が薄膜形成に及ぼす影響の検討，および電子ビーム照射時のプラズマ分光を行った．その結果，大面積電子ビーム照射で発生した工作物成分のプラズマによってターゲット材がスパッタリングされ，薄膜が形成されることがわかった．

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205659619584
  • NII論文ID
    130005486094
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2015s.0_1077
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

問題の指摘

ページトップへ