微細パターン形成に適する新規マンガンめっき浴の開発

• 依田 稔久

  新光電気工業㈱ 信州大学 大学院総合工学系研究科

• 近藤 人資

  新光電気工業㈱

• 是津 信行

  信州大学 環境・エネルギー材料科学研究所 信州大学 工学部 環境機能工学科

• 手嶋 勝弥

  信州大学 環境・エネルギー材料科学研究所 信州大学 工学部 環境機能工学科

書誌事項

タイトル別名

• Development of Manganese Plating Bath Suitable for the Fine Pattern Formation
• ビサイ パターン ケイセイ ニ テキスル シンキ マンガンメッキ ヨク ノ カイハツ

抄録

This work systematically examined the development of a new plating bath for fine-patterned manganese electrochemical deposition on an organic substrate under various conditions. Hull cell tests, potentiodynamic scans, and galvanostatic experiments conducted with widely diverse pH and current densities revealed that CyDTA played a critical role as a pH buffer in the formation of fine-patterned manganese films. Optimized plating conditions enabled the formation of fine-patterned manganese electrochemical deposits of 10 μm squares with 20 μm pitch.

収録刊行物

• 表面技術

  表面技術 67 (4), 211-216, 2016

  一般社団法人 表面技術協会

キーワード

• Manganese Plating
• Fine Pattern
• Hull Cell Tests
• pH Buffers

詳細情報

• CRID: 1390282679095297664
• NII論文ID: 130005529745
• NII書誌ID: AN1005202X
• DOI: 10.4139/sfj.67.211
• ISSN: 18843409
• ISSN: 09151869
• NDL書誌ID: 027278321
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I027278321
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/67/4/67_211/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可