合成マイカ上の原子レベルで平坦なNi膜基板の作成方法

• 田中 裕行

  大阪大学産業科学研究所

• 谷口 正輝

  大阪大学産業科学研究所

書誌事項

タイトル別名

• Fabrication of Atomically Flat Nickel Thin Film on Synthetic Mica
• ゴウセイ マイカ ジョウ ノ ゲンシ レベル デ ヘイタン ナ Niマク キバン ノ サクセイ ホウホウ

抄録

Synthetic mica was employed as a substrate for thin film growth and atomically flat Nickel thin film was heteroepitaxially formed. In addition to the small rms surface roughness achieved (< 1 nm), the surface morphology appears to be comparable to that of commercially available gold mica. Film growth was not complicated and consisted of nickel deposition and substrate annealing. The authors expect that as long as synthetic mica and standard film growth techniques are available, our results can be reproduced easily.

収録刊行物

• 表面科学

  表面科学 38 (7), 336-340, 2017

  公益社団法人 日本表面科学会

キーワード

• nickel film
• mica
• graphene
• STM
• AFM

詳細情報

• CRID: 1390282681434238464
• NII論文ID: 130005815218
• NII書誌ID: AN00334149
• DOI: 10.1380/jsssj.38.336
• ISSN: 18814743
• ISSN: 03885321
• NDL書誌ID: 028381721
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028381721
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsssj/38/7/38_336/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
  • KAKEN
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可