中空円筒型カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成したZrON薄膜の特性  [in Japanese] Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode  [in Japanese]

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ZrON系薄膜を石英ガラス、グラッシーカーボン基板上に中空円筒形カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成した。X線回折から、薄膜はZrN、Zr2ON2、ZrO2の混合相で構成され、酸素流量に依存していた。XPS測定により、Zr3dバンドを評価した。電気化学測定では、酸素流量が0.4の酸化還元電位が最高であった。<br>

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  • Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan

    Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 37(0), 98, 2017

    The Surface Science Society of Japan

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