中空円筒型カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成したZrON薄膜の特性 Characterization of ZrON thin films prepared by reactive sputtering using a hollow cylindrical cathode

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抄録

ZrON系薄膜を石英ガラス、グラッシーカーボン基板上に中空円筒形カソードを用いた反応性スパッタリングにより作成した。X線回折から、薄膜はZrN、Zr2ON2、ZrO2の混合相で構成され、酸素流量に依存していた。XPS測定により、Zr3dバンドを評価した。電気化学測定では、酸素流量が0.4の酸化還元電位が最高であった。<br>

収録刊行物

  • 表面科学学術講演会要旨集

    表面科学学術講演会要旨集 37(0), 98, 2017

    公益社団法人 日本表面科学会

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