タルボット効果を用いた広範囲3次元リソグラフィ(第1報)

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書誌事項

タイトル別名
  • Large-area nanofabrication by three-dimensional lithography using Talbot effect
  • 波面制御および定在波を援用した機能性構造の作製
  • Fabrication of functional structure using wavefront control and standing-wave field

抄録

ナノメートルオーダで作製された3次元構造は様々な機能性光学デバイスとして利用されており,高効率な作製手法が求められている.そこで,本研究ではタルボット効果という周期的な干渉現象を用いた3次元リソグラフィにより,広範囲の3次元ナノ構造を高効率に作製する手法を提案している.本報告では,タルボット効果に波面制御および定在場を援用することにより,様々な機能性光学デバイスが作製できることを示す.

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205659297152
  • NII論文ID
    130006043890
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2017s.0_511
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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