22　イオンビーム照射ポリマーの化学構造

• 堀邊 英夫

  大阪市立大学大学院工学研究科化学生物系専攻

書誌事項

タイトル別名

• 22 Chemical Structure of the Ion Beam Irradiated Polymer
• イオンビーム照射ポリマーの化学構造
• イオンビーム ショウシャ ポリマー ノ カガク コウゾウ

抄録

ホウ素（B），リン（P），ヒ素（As）のイオンをノボラック系ポジ型レジストに5×10¹²～5×10¹⁵個/cm²注入したイオンビーム照射レジストの化学構造を解析した。イオン注入レジストの表面部分は硬化しており，As→P→Bの順で硬化層は厚く，逆に硬化密度は小さくなった。イオン注入量にしたがい，レジストのπ共役系が形成され（UV測定），酸素成分が減少して炭素成分が増加（XPS測定），O–H及びC–H伸縮振動が減少しC=C結合が確認された（FT-IR解析）。以上より，イオンビーム照射により，レジストは表面部分が変質し，ヒドロキシル基が脱離して架橋した構造となることが判明した。

収録刊行物

• ＲＡＤＩＯＩＳＯＴＯＰＥＳ

  ＲＡＤＩＯＩＳＯＴＯＰＥＳ 66 (11), 567-577, 2017

  公益社団法人 日本アイソトープ協会

キーワード

• ion beam irradiated polymer
• chemical structure
• ion implantation photoresist
• resist removal
• cross-linking

詳細情報

• CRID: 1390282679132692992
• NII論文ID: 130006201430
• NII書誌ID: AN00351589
• DOI: 10.3769/radioisotopes.66.567
• ISSN: 18844111
• ISSN: 00338303
• NDL書誌ID: 028703556
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028703556
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/radioisotopes/66/11/66_661110/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可