フェムト秒レーザーによるシリカガラスの加工特性
書誌事項
- タイトル別名
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- Femtosecond laser processing properties of a silica glass
抄録
フェムト秒レーザーを合成シリカガラス中に集光照射した際の照射条件と加工特性の関係について検討した。照射レーザーは、Ti:Al2O3を再生増幅した波長870nm、パルス幅150fs、繰り返し周波数1kHzのフェムト秒レーザーを使用した。レーザーの集光には焦点距離4.5mmのレンズを用いた。偏光顕微鏡を用いた鋭敏色法によりレーザー照射部を観察した。レーザーが直接的に作用した部分の周囲には歪みの発生を示す変色部分が観察された。照射時間が長くなるにつれて、照射部分のサイズがわずかずつ大きくなるとともに、周囲の歪み部分も拡大した。さらに照射時間の増加に伴う歪みの増大により、クラックの発生も確認された。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2008F (0), 265-265, 2008
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205615090560
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- NII論文ID
- 130006971675
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可