シロイヌナズナの低温脱馴化過程に関与するRNAマスキング制御の研究

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タイトル別名
  • Identification of novel RNA masking system during deacclimation of <I>Arabidopsis</I> plants

抄録

越冬性植物は低温馴化過程において高度な耐凍性を獲得する．越冬後，植物は脱馴化と呼ばれる過程で耐凍性を解除し，生長を再開する．脱馴化過程は馴化過程と比較して短期間で起こる早い応答であり，そのメカニズム解明は植物の生長・発達を理解する上で重要である．しかし，脱馴化の分子メカニズムについては不明な部分が多い．そこで本研究では脱馴化メカニズムを解明するために，翻訳調節機構に着目し，RNAマスキング機構の探索と機能解明を目指した．RNAマスキングとは翻訳抑制によりmRNAを保持し，刺激により翻訳を開始する制御である．まず，RNAマスキングのターゲットを探索・同定するために，低温馴化時及び脱馴化時における遺伝子，タンパク質発現の比較解析をマイクロアレイ，2D-DIGEを用いて行った．ターゲットmRNAは、低温馴化時に転写されるが翻訳されずにmRNAの状態で保持され，脱馴化時に即座に翻訳されるものと考えられる．そこで，脱馴化特異的に発現量の増加するタンパク質の中から、対応するmRNAの発現パターンがタンパク質のそれと一致しないものを選抜した．その結果，幾つかのRNAマスキングのターゲット候補を見いだし，その中には1次代謝に関与するものが含まれていた．これは，植物が脱馴化時に生長・発達に必要なエネルギーの供給を即座に再開するシステムを有し，それが翻訳レベルで制御されていることを示唆している．

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205630687616
  • NII論文ID
    130006991514
  • DOI
    10.14841/jspp.2010.0.0330.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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