スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成

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タイトル別名
  • Sputter deposition of high quality ZnO films
  • スパッタリングセイマクホウ ニ ヨル コウヒンシツ サンカ アエン ハクマク ノ ケイセイ

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抄録

<p>スパッタリング成膜法を用いた酸化亜鉛（ZnO）薄膜の結晶成長において，初期核形成を制御する新しい方法「不純物添加結晶化（Impurity Mediated Crystallization: IMC）法」を開発した．本手法により，高格子不整合基板上への原子レベルで平坦なZnO単結晶膜の作製や，ガラス基板上への極薄低抵抗ZnO導電膜の形成が可能となった．本稿では，IMC法について紹介するとともに，これら成果の概要を述べる．</p>

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 83 (5), 385-389, 2014-05-10

    公益社団法人 応用物理学会

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