超高圧電子顕微鏡-カソードルミネッセンス分光法の照射損傷研究への応用  [in Japanese] Development and Application of High Voltage Electron Microscopy—Cathodoluminescence (HVEM-CL) Technique to Radiation Damage Study  [in Japanese]

Access this Article

Search this Article

Author(s)

Abstract

<p>九州大学の超高圧電子顕微鏡(最高加速電圧1250 kV)に付設したカソードルミネッセンス(CL)測定装置の概要を述べた.本装置は高エネルギー電子を照射しながら,すなわち試料中にフレンケル欠陥を導入しながら,CLスペクトルを「その場」で取得することが可能であり,像観察手法では不可能であった点欠陥の蓄積過程や価数に関する情報を取得することができる.本装置を用いて行ったα-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>,9.5および18 mol% Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>を添加した立方晶安定化ジルコニア中の電子照射に伴う<i>F</i>センターの蓄積過程,ならびにCLスペクトルの電子エネルギー依存性に関する著者らの最近の研究成果を紹介した.</p>

<p>A cathodoluminescence (CL) spectroscopy system equipped into a High Voltage Electron Microscope of Kyushu University (maximum acceleration voltage of 1250 kV) is introduced. This equipment allows us to acquire CL spectra <i>in situ</i> under high-energy electron irradiation, or under the production of Frenkel defects in specimens. Monitoring the accumulation process and charge states of point defects, which would not be available from conventional image analysis, is expected during electron irradiation. In this paper, recent results by the authors, that is, the accumulation of <i>F</i> centers and electron energy dependence of CL spectra in α-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> and cubic stabilized zirconia doped with 9.5, 18 mol% yttria (ZrO<sub>2</sub>: Y, or YSZ) during electron irradiation are described.</p>

Journal

  • KENBIKYO

    KENBIKYO 54(3), 110-115, 2019

    The Japanese Society of Microscopy

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    130007783655
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID)
    AA11917781
  • Text Lang
    JPN
  • ISSN
    1349-0958
  • NDL Article ID
    030168773
  • NDL Call No.
    Z16-896
  • Data Source
    NDL  J-STAGE 
Page Top