金属水素化物エピタキシャル薄膜の成長と電子物性

• 清水 亮太

  東京工業大学 物質理工学院 国立研究開発法人科学技術振興機構さきがけ

• 大口 裕之

  東北大学 未来科学技術共同研究センター 東北大学 材料科学高等研究所

• 一杉 太郎

  東京工業大学 物質理工学院

書誌事項

タイトル別名

• Metal hydrides: Epitaxial thin film growth and electronic properties
• キンゾク スイソカブツ エピタキシャル ハクマク ノ セイチョウ ト デンシ ブッセイ

抄録

硫化水素（H₂S）において超高圧下で200Kを超える超伝導転移が報告され，金属水素化物の物性が大きく注目されている．それに伴い，単結晶を用いた詳細な物性評価や電子デバイス応用が期待される．しかし，バルク単結晶やエピタキシャル薄膜の合成例は少なく，金属水素化物の電子物性，さらにはデバイス応用に関する研究は，酸化物や窒化物と比較すると極めて少ない．そこで筆者らは，エピタキシャル薄膜合成技術の確立と新機能探索の取り組みを始めた．本稿ではそれらについて概説し，「水素化物ならではの面白さ，難しさ，展望」について紹介する．読者が水素化物薄膜に興味をもつ一助になれば幸いである．

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 89 (1), 20-24, 2020-01-10

  公益社団法人 応用物理学会

詳細情報

• CRID: 1390283659838818176
• NII論文ID: 130007783795
• NII書誌ID: AN00026679
• DOI: 10.11470/oubutsu.89.1_20
• ISSN: 21882290
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 030169743
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I030169743
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • CiNii Articles
  • KAKEN
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可