プリンテッドエレクトロニクスのための2-ニトロベンジル基を含む光応答性表面修飾剤の開発

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タイトル別名
  • Development of Photosensitive Surface Modifying Agents Containing 2-Nitrobenzyl Group for Printed Electronics
  • プリンテッドエレクトロニクス ノ タメ ノ 2-ニトロベンジルキ オ フクム ヒカリ オウトウセイ ヒョウメン シュウショクザイ ノ カイハツ

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抄録

<p>金属酸化物表面修飾剤としてよく知られるシランカップリング剤の末端に，感光性の2-ニトロベンジル基で保護したカルボン酸やアミンを導入した光応答性表面修飾剤を開発した．これらを用いてシリコン ウェハやガラス基板の表面に光応答性自己組織化単分子膜（Self-Assembled Monolayer, SAM）を調製し，フォトマスクを用いた近紫外光の照射により，線幅10 μmのアミンやカルボン酸のパターニングに成功した．銀ナノ粒子や蛍光試薬を用いた染色により，これらのパターン形成を確認した．さらに，新たな表面修飾剤として，感光性ホスホン酸誘導体の開発についても，あわせて報告する．</p>

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