三次元フラッシュメモリ製造に向けた新規ドライエッチングプロセスの開発

• 飯野 大輝

  キオクシア

書誌事項

タイトル別名

• Development of innovative dry etching process for manufacturing 3D Flash Memory

抄録

三次元フラッシュメモリは人類の生成する膨大な情報を記憶するデバイスとして大きな役割を果たしている。ドライエッチングプロセスは、三次元フラッシュメモリの製造におけるキープロセスであり、様々な技術分野でのイノベーションが求められる。本報告では、ドライエッチングプロセス開発の概要を述べるとともに、具体例として、On-site合成したC₂F₄ガスを適用したエッチングプロセスについても紹介する。

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2020S (0), 379-380, 2020-03-01

  公益社団法人 精密工学会

詳細情報

• CRID: 1390004222624924800
• NII論文ID: 130007896595
• DOI: 10.11522/pscjspe.2020s.0_379
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可