化学研磨と精密洗浄した銅の清浄性評価

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タイトル別名
  • Cleanliness evaluation of cheical polished and precision cleaned copper

抄録

<p>超高真空環境が必要な粒子加速器に使用される銅製部品は、高い清浄性が求められる。そのため、電解研磨や化学研磨後に精密洗浄を行うことが一般的である。本研究では、化学研磨後に精密洗浄した銅（C1020）の清浄性をイオンクロマトグラフィおよびガスクロマトグラフィ質量分析法で無機、有機残渣量を定量することで評価した。その結果、半導体業界での銅に対する残留イオン、有機物の許容量を下回る高い清浄性が確認された。</p>

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390568456338795392
  • NII論文ID
    130007959496
  • DOI
    10.14886/jvss.2020.0_91
  • ISSN
    24348589
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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