Nd-Fe-B薄膜における元素選択的磁気ヒステリシスの軟X線磁気円二色性による測定へのモリブデンキャップ層の影響
書誌事項
- タイトル別名
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- Effect of Mo Cap Layer on Element Specific Hysteresis Measurement by Soft X-Ray Magnetic Circular Dichroism
抄録
Nd-Fe-B 系薄膜の元素選択的磁気ヒステリシス測定を軟X線磁気円二色性測定(XMCD)で行った際のキャップ層の影響を硬X線光電子分光(HAXPES)と組み合わせることで検証した。キャップ層が Mo 層 3 nm であるとき、その下の Nd-Cu 層および Nd-Fe-B 層は酸化されておらず、保護膜としての機能を果たしていることがHAXPES測定より分かった。しかしながら、XMCD 測定において、キャップ層によるシグナルの抑制のために、特に磁場中で発生するノイズがシグナルを超えて大きくなり、ヒステリシス測定が十分な精度で行えないことが分かった。
収録刊行物
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- SPring-8/SACLA利用研究成果集
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SPring-8/SACLA利用研究成果集 8 (1), 93-96, 2020-01-22
公益財団法人 高輝度光科学研究センター
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1391975831236326528
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- NII論文ID
- 130007969655
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- ISSN
- 21876886
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可