書誌事項
- タイトル別名
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- Molecular Orbital-Molecular Dynamics Simulation for Predicting HFO1123 Saturation Density and Surface Tension
- ブンシ キドウ ・ ブンシ ドウリキガク ケイサン ニ ヨル HFO1123 ノ ホウワ ミツド オヨビ ヒョウメン チョウリョク ケイサン
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抄録
<p><tt>低</tt>GWP <tt>冷媒</tt>HFO1123 <tt>と基本構造を同じくするエチレンを取り上げ,分子動力学計算によって気液平衡系を再現し,飽和密度と表面張力の予測を試みた.エチレンの力場には</tt>OPLS-AA <tt>を</tt>HFO1123 <tt>の力場には</tt>OPLS-AA/L <tt>と</tt>GAFF <tt>を併用した.ただし</tt>HFO1123 <tt>は極性分子であるため,分子軌道計算により予め電荷の値を求める事とした.飽和液密度の計算結果は,大きく電荷の値によって変化し,</tt>B3LYP/6-31G**<tt>レベルの計算で求まる電荷を用いる場合に,最も測定値と一致する事が分かった.エチレンは高温域で気液密度差と表面張力を共に過少評価する事が分かった.一方</tt>HFO1123 <tt>は,飽和密度は測定値と良く一致するものの,低温で表面張力が幾分過大に計算されることが分かった.</tt>HFO1123 <tt>の解析精度を向上させるためには,分子配置と応力の両者を的確にするポテンシャルの修正方法を見出す必要がある.</tt></p>
収録刊行物
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- 日本冷凍空調学会論文集
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日本冷凍空調学会論文集 37 (1), 81-, 2020-03-31
公益社団法人 日本冷凍空調学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390287540630967296
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- NII論文ID
- 130008009502
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- NII書誌ID
- AA11125910
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- ISSN
- 2185789X
- 13444905
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- NDL書誌ID
- 030380130
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可