広帯域光周波数コム散乱分光による表面トポグラフィ計測に関する基礎的研究（第3報）

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タイトル別名
  • 光周波数コムを光源とした回折像のVIPA分光

抄録

<p>数 nmから数十 μmの3次元微細加工において，表面トポグラフィ計測手法が求められている．広範囲かつ高精度な測定の実現のために，光周波数コムを光源としたレーザ逆散乱法による表面トポグラフィ計測系の開発を行っている．本報告では，前報で提案したVIPA分光光学系を用いた回折像の分光手法による光周波数コムを光源とした回折像の分光実験結果について報告する．</p>

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390852204637339392
  • NII論文ID
    130008084160
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2021s.0_633
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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