Epitaxial growth of thick 4H–SiC layers in a vertical radiant-heating reactor
収録刊行物
-
- Journal of Crystal Growth
-
Journal of Crystal Growth 237-239 1206-1212, 2002-04
Elsevier BV
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1362825896071188096
-
- NII論文ID
- 30004612641
-
- ISSN
- 00220248
- http://id.crossref.org/issn/00220248
-
- データソース種別
-
- Crossref
- CiNii Articles