大気圧マイクロ熱プラズマジェットによる非晶質Si薄膜の短時間結晶化  [in Japanese] Rapid crystallization of a-Si films using atmospheric plasma annealing  [in Japanese]

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  • プラズマ応用科学

    プラズマ応用科学 15(1), 53-60, 2007-06

    プラズマ応用科学会

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    40015683280
  • Text Lang
    JPN
  • ISSN
    13403214
  • NDL Article ID
    8981511
  • NDL Source Classification
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL Call No.
    Z15-B41
  • Data Source
    NDL 
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