代替フロン(CF3I)を用いたLow-k膜エッチング技術

• 曽田 栄一

• 近藤 誠一

• 斎藤 修一

書誌事項

タイトル別名

• ダイタイ フロン CF3I オ モチイタ Low kマク エッチング ギジュツ
• 全冊特集 新材料の導入と半導体製造装置
• ゼンサツ トクシュウ シンザイリョウ ノ ドウニュウ ト ハンドウタイ セイゾウ ソウチ

収録刊行物

• 電子材料

  電子材料 47 (3), 8-11, 2008-03

  東京 : 工業調査会

詳細情報

• CRID: 1522262180664603264
• NII論文ID: 40015890972
• NII書誌ID: AN00153166
• ISSN: 03870774
• NDL書誌ID: 9400418
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9400418
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles