大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用

• 垣内 弘章

• 大参 宏昌

• 安武 潔

書誌事項

タイトル別名

• タイキアツ プラズマ CVD ニ ヨル Si コウソクセイマク ト タイヨウ デンチ エ ノ オウヨウ
• High-rate deposition of silicon films by atmospheric-pressure plasma chemical vapor deposition and its application to Si thin film solar cells
• 特集 大気圧プラズマと注目の応用
• トクシュウ タイキアツ プラズマ ト チュウモク ノ オウヨウ

収録刊行物

• Optronics : 光技術コーディネートジャーナル

  Optronics : 光技術コーディネートジャーナル 31 (6), 88-93, 2012-06

  東京 : オプトロニクス社

詳細情報

• CRID: 1520291854936512128
• NII論文ID: 40019352506
• NII書誌ID: AN00360965
• ISSN: 02869659
• NDL書誌ID: 023832408
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I023832408
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles